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                1. 當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  膜厚儀  >  硬化涂層膜厚儀  >  FR-pRoThetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

                  Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

                  簡(jiǎn)要描述:Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

                  • 產(chǎn)品型號(hào):FR-pRo
                  • 廠商性質(zhì):代理商
                  • 產(chǎn)品資料:查看pdf文檔
                  • 更新時(shí)間:2024-11-26
                  • 訪  問  量: 14297

                  詳細(xì)介紹

                  膜厚測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測(cè)量?jī)x通常采用不同的工作原理和技術(shù)來實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的厚度測(cè)量,常見的膜厚測(cè)量?jī)x包括:
                  1、X射線熒光測(cè)厚儀:利用X射線照射樣品表面,通過測(cè)量熒光光譜來確定薄膜厚度。
                  2、聲表面波測(cè)量?jī)x:利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠頊y(cè)量薄膜厚度。
                  3、光學(xué)干涉儀:利用光學(xué)干涉原理測(cè)量薄膜的厚度,常見的有白光干涉儀和激光干涉儀。
                  4、磁感應(yīng)測(cè)厚儀:通過測(cè)量磁感應(yīng)信號(hào)來確定薄膜或涂層的厚度。
                  膜厚測(cè)量?jī)x在工業(yè)生產(chǎn)、材料研發(fā)、電子設(shè)備制造等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,可幫助用戶準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜的厚度,確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。使用膜厚測(cè)量?jī)x時(shí),需要根據(jù)實(shí)際情況選擇適合的儀器和測(cè)量方法,并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng)。

                  Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo概述:

                  FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

                  FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

                  FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

                  比如:

                  吸收率/透射率/反射率測(cè)量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

                  Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo應(yīng)用:

                  1、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

                  2、半導(dǎo)體行業(yè)

                  3、高分子聚合物&阻抗表征

                  4、電介質(zhì)特性表征

                  5、生物醫(yī)學(xué)

                  6、硬涂層,陽(yáng)極氧化,金屬零件加工

                  7、光學(xué)鍍膜

                  8、非金屬薄膜等等…

                  FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng))和控制單元,電子通訊模塊。

                  此外,還有各種各種配件,比如:

                  1.用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架;

                  2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

                  3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒;

                  4.漫反射和全反射積分球。

                  通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

                  Specificatins 規(guī)格:

                  Model

                  UV/Vis

                  UV/NIR -EXT

                  UV/NIR-HR

                  D UV/NIR

                  VIS/NIR

                  D Vis/NIR

                  NIR

                  光譜范圍  (nm)

                  200 – 850

                  200 –1020

                  200-1100

                  200 – 1700

                  370 –1020

                  370 – 1700

                  900 – 1700

                  像素

                  3648

                  3648

                  3648

                  3648 & 512

                  3648

                  3648 & 512

                  512

                  厚度范圍

                  1nm – 80um

                  3nm – 80um

                  1nm – 120um

                  1nm – 250um

                  12nm – 100um

                  12nm – 250um

                  50nm – 250um

                  測(cè)量n*k 蕞小范圍

                  50nm

                  50nm

                  50nm

                  50nm

                  100nm

                  100nm

                  500nm

                  準(zhǔn)確度*,**

                  1nm or 0.2%

                  1nm or 0.2%

                  1nm or 0.2%

                  1nm or 0.2%

                  1nm or 0.2%

                  2nm or 0.2%

                  3nm or 0.4%

                  精度*,**

                  0.02nm

                  0.02nm

                  0.02nm

                  0.02nm

                  0.02nm

                  0.02nm

                  0.1nm

                  穩(wěn)定性*,**

                  0.05nm

                  0.05nm

                  0.05nm

                  0.05nm

                  0.05nm

                  0.05nm

                  0.15nm

                  光源

                  氘燈 & 鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

                  鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

                  光斑 (直徑)

                   

                   

                  350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)

                   

                   

                  材料數(shù)據(jù)庫(kù)

                   

                   

                   

                  > 600 種不同材料

                   

                   

                   

                  Accessries 配件:

                  電腦

                  19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

                  聚焦模塊

                  光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

                  薄膜/比色皿容器

                  在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對(duì)薄膜或液體的透射率測(cè)量

                  接觸式探頭

                  用于涂層厚度測(cè)量和光學(xué)測(cè)量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

                  顯微鏡

                  用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測(cè)量

                  Scanner  (motorized)

                  帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動(dòng)化樣品臺(tái)可選,Polar(R-Θ)樣品臺(tái)支持反射率測(cè)量,Cartesian(X-Y)樣品臺(tái)支持反射率和透射率測(cè)量

                  積分球

                  用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

                  手動(dòng) X-Y 樣品臺(tái)

                  測(cè)量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動(dòng)平臺(tái)

                  加熱模塊

                  嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

                  液體模塊

                  聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學(xué)窗口測(cè)量在液體中的樣品。樣品夾具,

                  用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

                  流通池

                  液體中吸光率、微量熒光測(cè)量






                  工作原理:

                  白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

                  * 規(guī)格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測(cè)量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測(cè)量厚度。

                   

                   

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