當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
在材料科學(xué)、微電子制造以及精密機械加工等多個領(lǐng)域，對表面微結(jié)構(gòu)的研究和分析至關(guān)重要。其中，凹坑的平均深度是一個關(guān)鍵參數(shù)，對于評估材料性能、產(chǎn)品質(zhì)量等具有重要意義。而三維形貌儀作為一種先進的測量分析儀器，在計算凹坑平均深度方面發(fā)揮著不可替代的...
納米壓印機是一種非常靈活的壓印設(shè)備。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動的，軟件用戶可以*控制壓印過程。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和...
近年來，隨著儀器行業(yè)的不斷發(fā)展，多波段橢偏儀在市場上得到了快速地發(fā)展。由于其突出的表現(xiàn)，受到了廣泛用戶的青睞。目前本產(chǎn)品可以適用于超薄膜，與樣品非接觸等，下面我們就來具體的了解一下這款儀器！在多波段橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置，但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片。再利用第二個固定位置的偏振片來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器，而...
接觸式光刻機是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。主要構(gòu)成：主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。接觸式光刻機的使用原理：其實在我國對于接觸式光刻機，曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率...
硬化涂層膜厚儀是一款快速、準確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控制的XY工作臺，使其快速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性圖。工作原理：本產(chǎn)品采用電磁感應(yīng)法測量涂層的厚度。位于部件表面的探頭產(chǎn)生一個閉合的磁回路，隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變，該磁回路將不同程度的改變，引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測量探頭與鐵磁性材料間的距離，即涂層厚度。硬化涂層膜厚儀的符合...
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。等離子去膠性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。產(chǎn)品具有去膠快速*；對樣片無損傷；操作簡單安全；設(shè)計緊湊美觀；產(chǎn)品性價比高等...